1、磁控濺射方式：
   磁控濺射可以分為: 直流濺射、中頻濺射、射頻濺射
 A、直流濺射電源便宜，沉積膜層致密度較差，一般國內光熱、薄膜電池選擇使用的方法，能量較低，濺射  靶材為導電的金屬靶材。
 B、 射頻濺射能量較高，濺射靶材可以是不導電的靶材，也可以為導電的靶材。
 C、中頻濺射靶材可以陶瓷靶材，也可以為金屬靶材。
2、濺射靶材的分類與運用
  濺射靶材種類繁多，靶材的分類方法也不盡相同，根據形狀分為長靶材、方靶材、圓靶材；根據成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材；根據應用領域不同可分為半導體關聯陶瓷靶材、記錄介質陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材等。濺射靶材主要應用于電子及信息產業，如信息存儲產業，在這個產業中，使用濺射靶材制備相關的薄膜產品（硬盤、磁頭、光盤等）。目前。隨著信息產業的不斷發展，市場上對記錄介質陶瓷靶材的需求量越來越大，記錄介質靶材的研究與生產成為被廣泛關注的焦點。