隨著電子產業的發展，高技術材料逐漸向薄膜轉移，鍍膜期間隨之發展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源極。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產業發展的基礎材料，已得到空前的發展，靶材市場規模日益膨脹。

國內的陶瓷平面靶材主要采用燒結及綁定工藝，可生產最大長度600mm，最大寬度400mmm，最大厚度30mm，圓角、斜邊、臺階等異形根據客戶要求加工。

常見的陶瓷靶材主要有：ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、二氧化鋯靶，五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁、靶五氧化二鉭、五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶等。

陶瓷靶材的種類：

(1)按化學組成，可分為氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等。其中平面顯示ITO陶瓷靶材國內已廣泛生產應用。高介電絕緣膜用陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材具有廣闊的應用前景。

(2)按應用來分，可分為半導體關聯陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、磁記錄陶瓷靶材、光記錄陶瓷靶材、超導陶瓷靶材、巨磁電阻陶瓷靶材等。

陶瓷靶材在現有的復雜電子產品制造中，只不過占工程的極少部分，但起到了信息產業基礎先導材料的作用。我國電子信息產業發展很快，陶瓷濺射靶材的需求逐年增多，未來對陶瓷濺射靶材的研究和開發，是我國靶材供應商的一個重要的課題。